国家知识产权局 · 公告公报/工作通知/政策解读·· 2026-08-03重要度91
专家解读《集成电路布图设计保护条例》修订:删除"半导体集成电路"字样、新增独创性声明要求
专家解读 | 适应高质量发展需求 完善集成电路知识产权保护制度
AI 导读
中国人民大学知识产权学院郭禾解读《集成电路布图设计保护条例》修订,修订后删除"半导体集成电路"字样,将集成光子、量子等功能的集成电路布图设计纳入保护范围。修订后的《条例》第23条、第24条新增申请人提交的复制件或图样应包含必要信息、独创性声明应指明设计区域与设计要点等要求,第34条明确保护范围以登记的复制件或图样为准。此次修订还引入诚实信用原则并落实惩罚性赔偿制度。
来源:国家知识产权局 · 公告公报/工作通知/政策解读 · cnipa.gov.cn