国家知识产权局 · 公告公报/工作通知/政策解读·· 2026-08-03重要度91
专家解读 | 我国集成电路布图设计保护制度的最新发展
AI 导读
清华大学法学院崔国斌解读修订后的《集成电路布图设计保护条例》,修订引入依第三方请求启动的撤销登记程序,与专利权无效宣告程序相似。新增法人或非法人组织对符合条件人员的奖酬规定,未约定时按《促进科技成果转化法》提取不低于转让净收入50%等标准执行。同时引入惩罚性赔偿,对故意侵权且情节严重的,可按确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额,并完善了电子版本复制件或图样的保密要求及法律责任。
来源:国家知识产权局 · 公告公报/工作通知/政策解读 · cnipa.gov.cn